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半導体のEUV露光で高まる日本メーカーの存在感、普及はどこまで進む?|ニュースイッチ by 日刊工業新聞社
微細化追求 見極め重要 半導体回路の微細化で欠かせない「極端紫外線(EUV)露光」の周辺工程で、日本の装置メーカーの存在感が増している。最も重要な露光装置は蘭ASMLが市場を独占するものの、検査や感光剤の塗布・現像など周辺装置分野では日本勢が高いシェアを持つ。ただ先端のEUV関連装置は高額で、半導... 続きを読む
TSMC、EUV露光による7nm量産を第2四半期より開始 ~5nmのリスク生産も上半期に開始 - PC Watch
【福田昭のセミコン業界最前線】EUV露光による先端ロジックと先端DRAMの量産がついにはじまる - PC Watch
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