タグ EUV
人気順 10 users 50 users 100 users 500 users 1000 users引火性危険物で冷却しないといけない露光機 EUVによる露光プロセスの推移 (1/3)
2023/05/08
10 users
Rapidus
毛色
IBM
ご存じ
焦点
今回は毛色を変えて、EUV（Extreme UltraViolet：極端紫外線）を説明しよう。昨今EUVをどこまでモノにできるか、というのがファウンダリー各社の焦点になっているのはご存じのとおりで、IBMと提携して2nmプロセスでの製造に突き進む日本のRapidusも、なるべく急いでEUVプロセスを習熟する必要がある。 この話そのものは... 続きを読む
ASMLーゴミ捨て場に生まれた企業が世界の半導体製造を制覇した （野口 悠紀雄） @gendai_biz
2022/02/20
19 users
悠紀雄
gendai_biz
野口
半導体製造
ASML
1990年代中頃まで、半導体露光装置で、キヤノンとニコンは世界を制覇した。しかし、その後、オランダのASMLがシェアを伸ばし、現在では、EUVと呼ばれる半導体製造装置の生産をほぼ独占している。日本のメーカーは、なぜASMLに負けたのか？ ASMLとは何者？ オランダにASMLという会社がある。時価総額2642.2億ドル。これは... 続きを読む
Intelが超微細プロセスの量産に対応する高NA EUV露光装置をASMLに発注
2022/01/22
7 users
ASML
Intel
量産
発注
プロセス
IntelとASMLは1月19日(現地時間)、IntelがASMLの現行の開口率NA=0.33のEUV露光装置の次世代機となるNA=0.55の高NA EUV露光装置の量産対応機「TWINSCAN EXE:5200」の購入に向けた最初の発注を行ったことを明らかにした。 ASMLは2021年の投資家向けイベントにおいて、EUVのロードマップを披露し、2025年には高NA EUV露光装... 続きを読む
原子層エッチングがEUVの確率変動を低減：5nmロジックへと導く（1/2 ページ） - EE Times Japan
2021/04/13
7 users
紫外線
半導体製造プロセス
低減
普及拡大
要素
次世代の半導体製造プロセスに必須ともいわれるEUV（極端紫外線）リソグラフィ技術。今回は、大手装置メーカーのLam Researchが、EUVリソグラフィにおいて重要な要素となる確率変動について解説する。 極端紫外線（EUV）リソグラフィが普及拡大へと進む中、EUVリソグラフィ装置を手掛けるオランダASMLは、これまでEUVリ... 続きを読む
TSMCとSamsungが繰り広げるEUVのマスク描画装置と検査装置の調達競争 | マイナビニュース
2020/12/18
5 users
ASML
TSMC
Samsung
限界
製造
7nm以降のロジックデバイスの製造に必須となっているEUVリソグラフィ装置は、ASMLが独占的に販売しているが、その生産能力には限界があり、7nm以降の微細プロセスでの事業拡大を図っているTSMCとSamsung Electronicsがこぞって調達競争を繰り広げている。そんな中、韓国の電子産業専門メディアetnewsが12月14日付けで、... 続きを読む
NVIDIAの次世代GPU、SamsungがEUV 7nmプロセスで製造か - PC Watch
2019/07/04
19 users
Samsung
NVIDIA
次世代GPU
7nmプロセス
TSMCが10年ぶりに日本で記者会見。EUV 7nmプロセスの順調さなどをアピール - PC Watch
2019/06/28
27 users
TSMC
記者会見
アピール
7nmプロセス
順調さ